La presente invenzione è relativa ad un dispositivo transistore ad effetto di campo ad alta mobilità elettronica ("High Electron Mobility Transistor", HEMT) avente una struttura di porta migliorata e al relativo procedimento di fabbricazione.

DISPOSITIVO HEMT AVENTE UNA STRUTTURA DI PORTA MIGLIORATA E RELATIVO PROCEDIMENTO DI FABBRICAZIONE / Iucolano, Ferdinando; Chini, Alessandro; Eloisa Castagna, Maria; Constant, Aurore; Tringali, Cristina. - (2023 Mar 27).

DISPOSITIVO HEMT AVENTE UNA STRUTTURA DI PORTA MIGLIORATA E RELATIVO PROCEDIMENTO DI FABBRICAZIONE

Alessandro Chini;
2023

Abstract

La presente invenzione è relativa ad un dispositivo transistore ad effetto di campo ad alta mobilità elettronica ("High Electron Mobility Transistor", HEMT) avente una struttura di porta migliorata e al relativo procedimento di fabbricazione.
27-mar-2023
STMicroelectronics SRL
IT202300005811A1
Iucolano, Ferdinando; Chini, Alessandro; Eloisa Castagna, Maria; Constant, Aurore; Tringali, Cristina
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